CIF150~450K超低温黑体源|面源黑体|黑体校准源|黑体辐射源|红外校准
详细信息
| | 品牌：CIF | | 型号：HY-ML--100/200/300/FB | | 加工定制：是 | |
| | 外形尺寸：可定制 mm | | 重量：可定制 ㎏ | | 用途：热成像校准 | |
产品型号：
超低温面源黑体HY-ML--100/200/300/FB
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HY-ML系列超低温面源黑体为真空环境适用的面源黑体产品，其温度控制采用薄膜型加热器件，主动降温则通过液氮或低温循环氦气实现。搭配自主研发的温度控制系统后，能够在较宽的温度区间内(150K~450K,低温均可扩展至40K)实现精准调控。该面源黑体具有温度均匀性好、发射率高的特点，同时集成化与标准化程度较高，可应用于实验室及真空低温环境下红外成像器的辐射定标和非均匀性校正工作。
一、应用领域
- 测温仪，热像仪温度校准
- 光谱分析仪校准
- 光电校准系统
- 辐射计、热流量计校准
二、设备特点
主要特点：
- 绝对温度可调节(150K~450K，低温均可扩展至40K)
- 高均匀度、高发射率辐射面
- 0.01K温度分辨率
- 能够在广泛的环境温度下运行(100K)
电气特点：
- 带有用户操作的大型彩色LCD显示屏界面
- 元器件100%国产化(可选)
- 以太网/RS-485/RS-422远程通信端口
三、设备参数
| 型号：HY-ML- |
100 |
200 |
300 |
FB |
| 有效口径(mm) |
100×100 |
200×200 |
300×300 |
可到10m×10m |
| 绝对温度范围 |
150K~450K(低温均可扩展至40K) |
| 温度分辨率 |
0.001K |
| 法向有效发射率 |
0.98±0.02 |
| 辐射面温度均匀性 |
0.5@[150K,200K],0.2@(200K,450K) |
| 温度稳定性 |
0.05K/min |
测温准确度
(传感器) |
±(0.06℃+0.005|t|) |
辐射源尺寸
(宽高深mm) |
150×180×80 |
280×320×160 |
400×460×220 |
定制 |
| 辐射源重量(Kg) |
12 |
30 |
50 |
定制 |
| MAX功耗(KW) |
1.0 |
2.2 |
3.5 |
定制 |
| 供电要求 |
220VAC，50/60Hz |
定制 |
控制器尺寸
(宽深高mm) |
483×400×135(3U) |
483×400×178(4U) |
定制 |
| 控制器重量(Kg) |
16 |
35 |
定制 |
| 通讯接口 |
RS-422/RS-485/RS232/以太网 |
工作环境温度
(辐射源) |
100K |
工作环境温度
(控制器) |
-10℃~40℃ |
| 贮存温度 |
-40℃~70℃ |
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