• CIF实验室型等离子清洗机|真空等离子表面处理|表面活化CPC-10M

    详细信息

     加工定制:是  品牌:CIF  型号:CPC-10M  
     用途:工业用  工作频率:40 KHz  工作电压:220 v 
     功率:0-600 W无极可调 w   
    产品型号:
    CPC-10M
    一、应用领域
    等离子清洗设备广泛应用于材料学、微电子、半导体、新能源、线路板、LED、微流控、光电太阳能、生物医学等领域,主要用于材料表面进行清洗、改性、刻蚀等目的。
    二、设备特点
    1. 7寸彩色触摸屏中英文互动操作界面,自动控制监测工艺参数状态,20个配方程序,工艺数据可存储追溯。
    2. PLC工控机控制整个清洗过程,手动、自动两种工作模式。
    3. 石英真空舱,真空管路系统采用316不锈钢材质,耐腐蚀无污染。
    4. 采用质量流量计,实现对气体输入控制,改变传统浮子流量计控制气体流量不准确问题。
    5. HEPA 高效过滤,气体返填吹扫,防止二次污染。
    6. 60度倾角操作界面设计,符合人体功能学,操作方便,界面友好。
    7. 顶置真空舱,上开盖设计,下压式铰链开关方式,开关盖方便。
    8. 采用花洒式多孔进气方式,改变传统等离子清洗机单孔进气不均匀问题。
    9. 上置式 360 度自由水平取放样品托盘设计,符合人体功能学,操作更方便。
    10. 有效清洗面积大,可清洗*大直径8吋硅片。
    11. 安全保护,舱门打开,自动关闭电源。
    三、设备参数
    1. 发生器频率:40KHz
    2. 功率:0-600 W无极可调
    3. 匹配器:自动匹配
    4. 激发方式:电容式
    5. 气体控制:质量流量计(MFC)或双浮子流量计
    6. 舱体尺寸:L300×Φ215 mm
    7. 舱体材质:不锈钢或石英玻璃
    8. 舱体容积:10.8 L
    9. 有效处理尺寸:L300×W215 mm
    10. 时间设定:9999
    11. 真空泵:抽速8 m³/h
    12. 气体稳定时间:1分钟
    13. 真空度:100 pa以内
    14. 电源:AC220 V 50/60 Hz  752/452 W
    15. 产品尺寸:L645×W550×H495 mm
    16. 包装尺寸:L750×W700×H720 mm
    17. 整机重量:55 kg
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